Material zur Bildung eines Siliziumhaltigen Films, und Siliziumhaltige Isolierfilm und Verfahren zu dessen Bildung

EP2123658 Art A1 25. November 2009

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2123658
Aktenzeichen: EP08711128
Anmeldetag: 12. Februar 2008
Veröffentlichung: 25. November 2009
Rechtsraum: EP
IPC: C07F7/18C09D5/25C09D183/06C23C16/42H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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