Ersteller von Mustern mit Doppelbrechung und Schichtstrukturmaterial zur Verhinderung der Fälschung
EP2124076
Art B1
26. September 2018
Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2124076
- Aktenzeichen
- EP09006782
- Anmeldetag
- 20. Mai 2009
- Veröffentlichung
- 26. September 2018
- Erteilung
- 26. September 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B5/30B42D25/36
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- FUJIFILM Corporation
Fujifilm Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München