Vorrichtung und Verfahren zum Abscheiden Kristalliner Schichten Wahlweise mittels Mocvd oder Hvpe
EP2126161
Art B1
12. Januar 2011
Anmelder: AIXTRON AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2126161
- Aktenzeichen
- EP08709150
- Anmeldetag
- 21. Februar 2008
- Veröffentlichung
- 12. Januar 2011
- Erteilung
- 12. Januar 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B25/10C30B29/40C30B29/48C23C16/46
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AIXTRON AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Aixtron
Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.
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Fachgebiete
Vertreten von
Rieder, Hans-Joachim
Wuppertal, Deutschland
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