Siliziumdielektrikum-Behandlungsmittel zur Verwendung nach dem Ätzen, Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements und Halbleiterbauelement
EP2128897
Art B1
6. Mai 2015
Anmelder: Fujitsu Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2128897
- Aktenzeichen
- EP07736894
- Anmeldetag
- 16. März 2007
- Veröffentlichung
- 6. Mai 2015
- Erteilung
- 6. Mai 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3105H01L21/768H01L21/02C11D3/16C11D3/04C11D3/20C11D3/30C11D7/08C11D7/26C11D7/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujitsu Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujitsu
Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.
17.884 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Stebbing, Timothy Charles
London, Großbritannien
2.032
Patente gesamt
30
Fachgebiete
4
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Schwerpunkte