Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Positionskalibrierung eines Trägertisches
EP2131243
Art B1
1. Juli 2015
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2131243
- Aktenzeichen
- EP09161522
- Anmeldetag
- 29. Mai 2009
- Veröffentlichung
- 1. Juli 2015
- Erteilung
- 1. Juli 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Maas, Abraham Johannes
Veldhoven, Niederlande
118
Patente gesamt
10
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte