Verfahren und Apparat zur Erzeugung überlagerter Strukturen auf einem Substrat
EP2132599
Art B1
6. Oktober 2010
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2132599
- Aktenzeichen
- EP07860862
- Anmeldetag
- 3. Dezember 2007
- Veröffentlichung
- 6. Oktober 2010
- Erteilung
- 6. Oktober 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
Raukema, Age
Veldhoven, Niederlande
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