Verbindung für Photoresist, Photoresistlösung und davon Gebrauch Machendes Ätzverfahren
EP2135901
Art A1
23. Dezember 2009
Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2135901
- Aktenzeichen
- EP08721374
- Anmeldetag
- 5. März 2008
- Veröffentlichung
- 23. Dezember 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09B23/00C09B29/48C09B45/14C09B45/18C09B45/20C09B45/48C09B47/12C09B47/18C09B47/20G03F7/004G03F7/09G03F7/36
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- FUJIFILM Corporation
Fujifilm Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München