Gegen aktinische Strahlen empfindliche oder strahlungsempfindliche Zusammensetzung und Strukturbildungsverfahren damit

EP2141183 Art A1 6. Januar 2010

Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2141183
Aktenzeichen: EP09008512
Anmeldetag: 30. Juni 2009
Veröffentlichung: 6. Januar 2010
Rechtsraum: EP
IPC: C08F220/26G03F7/039G03F7/20// G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: FUJIFILM Corporation
Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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