Prozess zur Herstellung eines Zusammengesetzten Substrats

EP2143137 Art A1 13. Januar 2010

Anmelder: Soitec, S.O.I. TEC Silicon on Insulator Technologies 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2143137
Aktenzeichen
EP08735486
Anmeldetag
26. März 2008
Veröffentlichung
13. Januar 2010
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/762H01L21/68
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Soitec
S.O.I. TEC Silicon on Insulator Technologies
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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