Vorrichtung zur Temperatursteuerung der Oberflächentemperaturen von Substraten in einem Cvd-Reaktor
EP2155926
Art B1
1. September 2010
Anmelder: AIXTRON AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2155926
- Aktenzeichen
- EP08760431
- Anmeldetag
- 3. Juni 2008
- Veröffentlichung
- 1. September 2010
- Erteilung
- 1. September 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/458C23C16/46C30B25/10C30B25/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AIXTRON AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Aixtron
Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.
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Vertreten von
Rieder, Hans-Joachim
Wuppertal, Deutschland
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