Verfahren zur Herstellung einer Gasdichten Festelektrolytschicht und Festelektrolytschicht
EP2156499
Art B1
23. Februar 2011
Anmelder: Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V., Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e. V., DLR Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2156499
- Aktenzeichen
- EP08759666
- Anmeldetag
- 16. Mai 2008
- Veröffentlichung
- 23. Februar 2011
- Erteilung
- 23. Februar 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01M8/12C23C4/10C23C4/12C23C4/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V.
Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e. V.
DLR Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt
Deutsches Forschungszentrum für Luftfahrt, Raumfahrt, Energie und Verkehr mit Hauptsitz in Köln. Das DLR ist zugleich die deutsche Raumfahrtagentur und betreibt zahlreiche Institute im gesamten Bundesgebiet.
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Vertreten von
Regelmann, Thomas
Stuttgart, Deutschland
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Fachgebiete
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Schwerpunkte