Hemmung der Hintergrundplattierung
EP2157209
Art B1
22. Oktober 2014
Anmelder: Rohm and Haas Electronic Materials LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2157209
- Aktenzeichen
- EP09155196
- Anmeldetag
- 16. März 2009
- Veröffentlichung
- 22. Oktober 2014
- Erteilung
- 22. Oktober 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C28/00C25D5/02H01L31/0224H01L31/0216C25D5/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Rohm and Haas
Ehemaliger US-amerikanischer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Philadelphia, unter anderem für Kunststoffe, Beschichtungen und Elektronikchemikalien bekannt. Wurde 2009 von Dow Chemical übernommen.
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Vertreten von
Kent, Venetia Katherine
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