Resistzusammensetzung für Negativentwicklung und Verfahren zur Bildung von Mustern damit

EP2157479 Art B1 22. Mai 2019

Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2157479
Aktenzeichen: EP08765543
Anmeldetag: 12. Juni 2008
Veröffentlichung: 22. Mai 2019
Erteilung: 22. Mai 2019
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/038C08F220/28G03F7/004G03F7/039G03F7/32G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: FUJIFILM Corporation
Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von