Strahlungsquelle, Lithographieapparat und Verfahren zur Herstellung von Bauelementen
EP2157481
Art A3
13. Juni 2012
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2157481
- Aktenzeichen
- EP09166136
- Anmeldetag
- 22. Juli 2009
- Veröffentlichung
- 13. Juni 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H05G2/00G21K1/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven