Siliziumverarbeitungsverfahren und Siliziumsubstrat mit Ätzmaske
EP2159191
Art A2
3. März 2010
Anmelder: Canon Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2159191
- Aktenzeichen
- EP09168828
- Anmeldetag
- 27. August 2009
- Veröffentlichung
- 3. März 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B81C1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Canon Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Canon
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.
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Vertreten von
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