Lithographischer Immersionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP2159639
Art A1
3. März 2010
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2159639
- Aktenzeichen
- EP09168275
- Anmeldetag
- 20. August 2009
- Veröffentlichung
- 3. März 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Corcoran, Gregory Martin Mason
Veldhoven, Niederlande
102
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