Reinigungsverfahren für Optik in einer Immersionslithographievorrichtung, sowie entsprechende Immersionslithographievorrichtung

EP2161621 Art B1 24. Oktober 2018

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2161621
Aktenzeichen: EP09176911
Anmeldetag: 2. April 2004
Veröffentlichung: 24. Oktober 2018
Erteilung: 24. Oktober 2018
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20// B08B3/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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