Verfahren zum Abscheiden einer Si-haltigen Schicht, Isolierschicht und Halbleitervorrichtung

EP2163664 Art A1 17. März 2010

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2163664
Aktenzeichen: EP09010938
Anmeldetag: 26. August 2009
Veröffentlichung: 17. März 2010
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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