Verfahren zur Anpassung des Streulichts eines Projektionsobjektives für die Mikrolithographie

EP2165241 Art B1 27. Februar 2013

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2165241
Aktenzeichen: EP08784500
Anmeldetag: 21. Mai 2008
Veröffentlichung: 27. Februar 2013
Erteilung: 27. Februar 2013
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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