Reinigungsverfahren für Optik in einer Immersionslithographievorrichtung, sowie entsprechende Immersionslithographievorrichtung
EP2166413
Art A1
24. März 2010
Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2166413
- Aktenzeichen
- EP09176913
- Anmeldetag
- 2. April 2004
- Veröffentlichung
- 24. März 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nikon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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Fachgebiete
Vertreten von
Spilgies, Jan-Hendrik
München, Deutschland
56
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17
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11
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Weitere Vertreter
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München