Verfahren zur Entfernung eines gehärteten Photoresists aus einem Halbleitersubstrat

EP2166564 Art B1 12. April 2017

Anmelder: IMEC VZW, IMEC 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2166564
Aktenzeichen: EP09170481
Anmeldetag: 16. September 2009
Veröffentlichung: 12. April 2017
Erteilung: 12. April 2017
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/311G03F7/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: IMEC VZW
IMEC
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 imec

Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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