Schmutzverhinderungssystem und Lithographische Vorrichtung

EP2168010 Art A2 31. März 2010

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2168010
Aktenzeichen: EP08779048
Anmeldetag: 22. Juli 2008
Veröffentlichung: 31. März 2010
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20B08B1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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