Reinigungsverfahren für Optik in einer Immersionslithographievorrichtung, sowie entsprechende Immersionslithographievorrichtung

EP2172809 Art B1 7. November 2018

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2172809
Aktenzeichen
EP09176912
Anmeldetag
2. April 2004
Veröffentlichung
7. November 2018
Erteilung
7. November 2018
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Nikon Corporation
Land
🇯🇵 Japan

Fachgebiete

Optik & Fototechnik
Vertreten von
Spilgies, Jan-Hendrik München, Deutschland
56
Patente gesamt
17
Fachgebiete
11
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Medizintechnik & Gesundheit Halbleiter & Elektrische Bauelemente Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Organische Chemie Verfahrens- & Trenntechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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