Reinigungsverfahren für Optik in einer Immersionslithographievorrichtung, sowie entsprechende Immersionslithographievorrichtung
EP2172809
Art B1
7. November 2018
Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2172809
- Aktenzeichen
- EP09176912
- Anmeldetag
- 2. April 2004
- Veröffentlichung
- 7. November 2018
- Erteilung
- 7. November 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nikon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
5.286 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Spilgies, Jan-Hendrik
München, Deutschland
56
Patente gesamt
17
Fachgebiete
11
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München