System und Verfahren für multi-Photon Stereolithography und optisches System zum Fokussieren eines Lichtstrahlbündels
EP2174177
Art B1
29. Oktober 2014
Anmelder: Agency for Science, Technology and Research 🇸🇬
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2174177
- Aktenzeichen
- EP08779491
- Anmeldetag
- 21. Juli 2008
- Veröffentlichung
- 29. Oktober 2014
- Erteilung
- 29. Oktober 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B27/30G02B27/09B29C67/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Agency for Science, Technology and Research
- Land
- 🇸🇬 Singapur
Fachgebiete
Vertreten von
Tuomela, Inga-Lill
Stockholm, Schweden
59
Patente gesamt
18
Fachgebiete
7
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Andersson, Inga-Lill
NoneGöteborg