Strahlungsquelle, lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP2175701
Art B1
22. Januar 2014
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2175701
- Aktenzeichen
- EP09164844
- Anmeldetag
- 8. Juli 2009
- Veröffentlichung
- 22. Januar 2014
- Erteilung
- 22. Januar 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01K17/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven