Doppelbelichtungsverfahren mit Vergroessertem Prozessfenster in der Halbleitererproduktion
EP2176710
Art B1
8. November 2017
Anmelder: Xilinx, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2176710
- Aktenzeichen
- EP08797219
- Anmeldetag
- 5. August 2008
- Veröffentlichung
- 8. November 2017
- Erteilung
- 8. November 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F7/40G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Xilinx, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Xilinx, Inc.
Xilinx, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller programmierbarer Logikbausteine (FPGAs), seit 2022 Teil von AMD, mit Patenten im Bereich Halbleitertechnik und Chipdesign.
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Naismith, Robert Stewart
Glasgow, Großbritannien
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