Positive Resistzusammensetzung, Strukturformungsverfahren unter Verwendung der Zusammensetzung und in Dieser Zusammensetzung Verwendete Verbindung

EP2177506 Art A1 21. April 2010

Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2177506
Aktenzeichen: EP08827323
Anmeldetag: 11. August 2008
Veröffentlichung: 21. April 2010
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004C07C309/73C07C69/716C07C309/65C07C309/74C07C311/06C07C317/44H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: FUJIFILM Corporation
Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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