Positiv Arbeitende Resistzusammensetzung und Strukturbildungsverfahren mit der Positiv Arbeitenden Resistzusammensetzung

EP2177952 Art A1 21. April 2010

Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2177952
Aktenzeichen: EP08792125
Anmeldetag: 1. August 2008
Veröffentlichung: 21. April 2010
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039C08F212/14C08F220/10H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: FUJIFILM Corporation
Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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