Verfahren zur Herstellung einer Elektrode zur Oberflächenbehandlung durch Entladung.
EP2179808
Art B8
7. Januar 2015
Anmelder: IHI Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2179808
- Aktenzeichen
- EP08791195
- Anmeldetag
- 16. Juli 2008
- Veröffentlichung
- 7. Januar 2015
- Erteilung
- 7. Januar 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B23H1/06B22F3/10B23H1/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- IHI Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
IHI Corporation
Japanischer Industriekonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Schwermaschinenbau, Luft- und Raumfahrttriebwerke sowie Anlagenbau.
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Fachgebiete
Vertreten von
Lamb, Martin John Carstairs
London, Großbritannien
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