System zur Regelung eines Gasstroms zwischen Kammern eines Euv-Photolithografiegeräts

EP2181449 Art B1 22. Mai 2013

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2181449
Aktenzeichen: EP08795348
Anmeldetag: 15. August 2008
Veröffentlichung: 22. Mai 2013
Erteilung: 22. Mai 2013
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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