Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren

EP2186386 Art A1 19. Mai 2010

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2186386
Aktenzeichen
EP08779074
Anmeldetag
5. August 2008
Veröffentlichung
19. Mai 2010
Rechtsraum
EP
IPC
H05G2/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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