Verfahren zur Herstellung eines Sinterkörpers, Sinterkörper, aus dem Sinterkörper Bestehendes Sputtertarget und Sputtertarget-Trägerplatte-Anordnung

EP2186917 Art B1 21. April 2021

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation, Nippon Mining & Metals Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2186917
Aktenzeichen
EP08791262
Anmeldetag
17. Juli 2008
Veröffentlichung
21. April 2021
Erteilung
21. April 2021
Rechtsraum
EP
IPC
C22C1/04B22F3/14C22C12/00C22C28/00C23C14/34B22F7/04H01J37/34
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
JX Nippon Mining & Metals Corporation
Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Software & Datenverarbeitung Medizintechnik & Gesundheit Metallurgie & Oberflächentechnik Nachrichtentechnik & Telekommunikation Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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