Gasversorgungssystem, Pumpsystem, Beschichtungssystem, Gasversorgungsverfahren und Pumpverfahren
EP2186923
Art A1
19. Mai 2010
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2186923
- Aktenzeichen
- EP08167337
- Anmeldetag
- 22. Oktober 2008
- Veröffentlichung
- 19. Mai 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
10.783 Patente in unserer Datenbank