Halbleiterbauelement und Verfahren zu Seiner Herstellung
EP2187431
Art A1
19. Mai 2010
Anmelder: SII Semiconductor Corporation, Seiko Instruments Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2187431
- Aktenzeichen
- EP08792574
- Anmeldetag
- 20. August 2008
- Veröffentlichung
- 19. Mai 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/336H01L29/78H01L29/423
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- SII Semiconductor Corporation
Seiko Instruments Inc. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Seiko Instruments
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chiba, tätig in den Bereichen Präzisionsinstrumente, Uhren und elektronische Bauteile.
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Fachgebiete
Vertreten von
Cloughley, Peter Andrew
London, Großbritannien
836
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8
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-
Miller Sturt Kenyon
Miller Sturt Kenyon · London