Rauschminderung bei Halbleiterbauelementen

EP2188811 Art B1 11. Juli 2012

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2188811
Aktenzeichen
EP08830015
Anmeldetag
25. August 2008
Veröffentlichung
11. Juli 2012
Erteilung
11. Juli 2012
Rechtsraum
EP
IPC
G11C16/34G11C16/26G11C11/56
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Micron Technology, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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