Plasmaerzeugungsverfahren und -gerät sowie Halbleitervorrichtungsherstellungsverfahren und -gerät

EP2190004 Art A3 21. Juli 2010

Anmelder: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2190004
Aktenzeichen: EP10156072
Anmeldetag: 11. Januar 2001
Veröffentlichung: 21. Juli 2010
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Heavy Industries

Japanischer Industriekonzern, der in Bereichen wie Energieerzeugung, Luft- und Raumfahrt, Schiffbau, Maschinenbau und Klimatechnik tätig ist und ein breites Spektrum an Industrieanlagen und -maschinen herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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