Monokristalldünnschicht einer Organischen Halbleiterverbindung und Herstellungsverfahren dafür

EP2190007 Art B1 15. August 2018

Anmelder: FUJIFILM Corporation, The University of Tokyo, Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2190007
Aktenzeichen
EP08829060
Anmeldetag
26. August 2008
Veröffentlichung
15. August 2018
Erteilung
15. August 2018
Rechtsraum
EP
IPC
C30B7/00C30B7/06C30B23/00C30B29/54C30B29/64H01L51/00H01L51/05H01L51/40
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
FUJIFILM Corporation
The University of Tokyo
Fujifilm Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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🇯🇵 University of Tokyo

Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.

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