Positive fotoresistzusammensetzung, verfahren zur mustersformung unter verwendung der zusammensetzung, in dieser zusammensetzung verwendetes harz, und monomer.

EP2194073 Art B1 5. Juni 2013

Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2194073
Aktenzeichen: EP08830724
Anmeldetag: 11. September 2008
Veröffentlichung: 5. Juni 2013
Erteilung: 5. Juni 2013
Rechtsraum: EP
IPC: C08F20/28G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: FUJIFILM Corporation
Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von