Verdampfungsgerät, Filmbildungsgerät, Filmbildungsverfahren und Speichermedium

EP2194161 Art A1 9. Juni 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2194161
Aktenzeichen: EP08832514
Anmeldetag: 11. August 2008
Veröffentlichung: 9. Juni 2010
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/448H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von