Verbesserung der Prozessmodellgenauigkeit durch Simulation von Maskenecken-Rundungseffekten

EP2198343 Art B1 27. April 2011

Anmelder: Synopsys, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2198343
Aktenzeichen: EP07866063
Anmeldetag: 27. Dezember 2007
Veröffentlichung: 27. April 2011
Erteilung: 27. April 2011
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/14G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Synopsys, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Synopsys

Synopsys ist ein US-amerikanischer Anbieter von Software für den Chip- und Systementwurf (EDA) mit Sitz in Kalifornien. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Optik und Elektronik für Entwurfswerkzeuge. Anmeldungen reichen von 2000 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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