Wärmehärtende Harzzusammensetzung für die Lichtreflexion, daraus Hergestelltes Substrat für die Montage von Photohalbleiterelementen, Herstellungsverfahren dafür und Photohalbleitervorrichtung
EP2199339
Art B1
5. November 2014
Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd., Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2199339
- Aktenzeichen
- EP08833026
- Anmeldetag
- 25. September 2008
- Veröffentlichung
- 5. November 2014
- Erteilung
- 5. November 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08L63/00C08G59/40C08L3/00C08L5/00C08L83/10H01L23/14H01L33/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Hitachi Chemical Co., Ltd.
Hitachi Chemical Company, Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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