Strahlungsquelle, lithographische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP2199857
Art B1
1. Februar 2012
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2199857
- Aktenzeichen
- EP09169802
- Anmeldetag
- 9. September 2009
- Veröffentlichung
- 1. Februar 2012
- Erteilung
- 1. Februar 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven