Verfahren zur Bildung von Silicid und Vorrichtung zur Bildung des Silicids
EP2200073
Art A1
23. Juni 2010
Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2200073
- Aktenzeichen
- EP08777011
- Anmeldetag
- 30. Mai 2008
- Veröffentlichung
- 23. Juni 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/28H01L21/285H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Canon Anelva Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Canon Anelva
Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.
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Vertreten von
Musker, David Charles
London, Großbritannien
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