Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterchips mit einem Haftfilm, Haftfilm für einen in dem Verfahren Verwendeten Halbleiter und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements

EP2200074 Art A1 23. Juni 2010

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2200074
Aktenzeichen: EP08837752
Anmeldetag: 7. Oktober 2008
Veröffentlichung: 23. Juni 2010
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/301H01L21/304H01L21/52H01L21/58H01L21/683H01L21/78H01L21/67H01L23/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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