Harzunterschichtzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung einer integrierten Halbleiterschaltungsvorrichtung damit
EP2204399
Art B1
31. August 2016
Anmelder: CHEIL INDUSTRIES INC., Cheil Industries Inc. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2204399
- Aktenzeichen
- EP09180744
- Anmeldetag
- 24. Dezember 2009
- Veröffentlichung
- 31. August 2016
- Erteilung
- 31. August 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G77/50C08G77/52C08L83/04C08L83/14C09D183/04C09D183/14C08K5/09C08K5/19C08K5/42G03F7/11H01L21/027H01L21/312
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- CHEIL INDUSTRIES INC.
Cheil Industries Inc. - Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Cheil Industries Inc.
Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.
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Vertreten von
Michalski, Stefan
Düsseldorf, Deutschland
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