Verfahren zur Bildung einer Siliziumoxidschicht über einem Substrat

EP2208222 Art A1 21. Juli 2010

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2208222
Aktenzeichen: EP08841549
Anmeldetag: 20. Oktober 2008
Veröffentlichung: 21. Juli 2010
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/31C09D183/14C09D183/05C23C16/04C23C16/40C23C16/452C23C16/56H01L21/312H01L21/316H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von