Verfahren zur Reinigung eines Halbleiter-Wafers
EP2209134
Art B1
22. März 2017
Anmelder: Sun Chemical Corporation, Rohm and Haas Electronic Materials LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2209134
- Aktenzeichen
- EP10150643
- Anmeldetag
- 13. Januar 2010
- Veröffentlichung
- 22. März 2017
- Erteilung
- 22. März 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/306H01L31/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Sun Chemical Corporation
Rohm and Haas Electronic Materials LLC - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Sun Chemical Corporation
US-amerikanischer Hersteller von Druckfarben, Pigmenten und Beschichtungsmaterialien mit Sitz in New Jersey, Tochtergesellschaft des japanischen DIC-Konzerns. Patente betreffen vor allem Farbstoffe, Pigmente und Druckchemie.
478 Patente in unserer Datenbank
🇺🇸
Rohm and Haas
Ehemaliger US-amerikanischer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Philadelphia, unter anderem für Kunststoffe, Beschichtungen und Elektronikchemikalien bekannt. Wurde 2009 von Dow Chemical übernommen.
2.601 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Hoggins, Mark Andrew
Bakewell, Großbritannien
201
Patente gesamt
21
Fachgebiete
6
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Buckley, Guy Julian
NoneBakewell