System, Code und Verfahren zum Bilden von Mustern auf einer Mehrfach Gekrümmten Fläche unter Verwendung eines Profilometers, Strukturierungswerkzeug und Musterbildungswerkzeug
EP2209582
Art B1
7. September 2011
Anmelder: Raytheon Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2209582
- Aktenzeichen
- EP08837055
- Anmeldetag
- 10. Oktober 2008
- Veröffentlichung
- 7. September 2011
- Erteilung
- 7. September 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B23K26/03B23K26/08B23K26/36B23K26/40G01B11/24H01Q1/42H01Q15/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Raytheon Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Raytheon Company
US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.
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Vertreten von
Lawrence, John
Birmingham, Großbritannien
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