Lithografische Projektionsvorrichtung und Gasspülverfahren

EP2211233 Art A2 28. Juli 2010

Anmelder: Entegris, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2211233
Aktenzeichen
EP10162412
Anmeldetag
21. Juli 2004
Veröffentlichung
28. Juli 2010
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Entegris, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Entegris

US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.

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