Verfahren zur Herstellung eines laminierten Wafers mit einem Hochtemperaturlaminierverfahren
EP2211380
Art B1
30. Oktober 2019
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2211380
- Aktenzeichen
- EP10150864
- Anmeldetag
- 15. Januar 2010
- Veröffentlichung
- 30. Oktober 2019
- Erteilung
- 30. Oktober 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/762
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Harding, Charles Thomas
London, Großbritannien
1.226
Patente gesamt
28
Fachgebiete
26
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
D Young & Co LLP
D Young & Co LLP · London